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クリーンルーム／ドライルーム​

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 クリーンルームテクノロジー

最先端産業の要であるクリーンルーム。当社は、長年の経験と実績によりクリーンルームの導入計画から、設計、施工、保守まで一貫したプロジェクト体制で皆様のニーズに的確にお応えします。

タカサゴ多目的クリーンルーム　TCR-MP®, TCRSuper-MP®

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●	天井内スペースにすべての機能を格納
●	クリーンルームと天井裏との静圧差により、各ユニットを天井フレームに置くだけでじん埃の漏洩を防止
●	清浄度クラスの自由な設定 TFFU 、天井パネルの自由な組合せにより清浄度クラス1～1,000 の設定が可能です。
●	清浄度区分の再配置 TFFU、天井パネル、簡易パーティションの再配置により清浄度区分変更が容易に行えます。
●	メンテナビリティ メンテゾーン、搬入通路を広く確保でき、TFFUの台数制御で清浄度を確保します。
●	天井システムのメンテナビリティ リークに対するフェールセーフにより、プロセスが稼働中でもTFFUのメンテナンスが容易に行えます。
●	安全の確保 外気導入ダクト系の切替により避難路の確保が可能です。
●	ランニングコストの低減 TFFUの台数制御・風量切替や、循環空調機が不要なため、ランニングコストの低減が可能です。

 

半導体製造用クリーンルーム　TCR-SWIT®

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高精度環境を省エネルギー・省コストと両立させ超短工期で構築

半導体製造用クリーンルームは、超微細精密加工を高い歩留で実現するために、温度・湿度・清浄度(ガス状汚染質除去)・気流・微振動を高精度かつ安定的に制御することが必要です。

豊富な施工実績に基づき、設備システム・容量の最適化、製造ライン・生産付帯設備に踏み込んだ提案、脱ガス配慮設計技術、垂直立上げを実現する施工管理手法などを駆使し、超短工期で高品質なクリーンルームを構築します。

また、 旋回流誘引型成層空調システムSWIT®（スウィット） を用いたクリーンルーム（TCR-SWIT®）では、少ない風量で作業域を従来と同じ清浄度に維持できるため、クリーンルームの省エネルギー化も実現できます。

（特許第5636140号、特開2017-187264号）

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【TCR-SWIT®（SWITを用いたクリーンルーム）内の浮遊微粒子分布の例】

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 ドライルーム＝ドライテクノロジー

当社のドライテクノロジーは、最新の機器を駆使し露点-100℃の空気を供給でき、リチウム電池、キャパシタ、有機ELの製造などを助けます。 さらに業界一の省エネ性能を有しています。

ドライルームの構成

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ドライルーム®の概要

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